Four de frittage de vide usine, Acheter bon prix MIM four de frittage produits

Rapid cooling Ceramic Sintering Furnace

Poids de Max.Loading: 50/100/150/300/500/1200/1500kgs

Pression de travail: 20/10/30/60/100/200 BAR

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Highly and advanced Ceramic heat treatment furnace with 10/20/30/60/100/200 Bar pressure

Pouvoir: 380v

Contrôle de l'atmosphère: système de mélange de gaz

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Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity

Max.Température de fonctionnement: 1800 ℃

Uniformité de la température: ≤ ± 5 ℃

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Tungsten Carbide Gas Pressure Vacuum Sintering Furnace with 3Pa/h Leakage Rate and 1550C Temperature

Max. Température de travail.: 1600 ℃

Température de travail: 1550℃

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Forneau de traitement thermique sous vide avec système de pression et de désaxage du gaz 1-20MPA

Détails d'emballage: caisses en bois

Délai de livraison: 5-6 mois

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Certificat CE ISO Forneau de frittage à pression de gaz 1-20MPA avec électrode d'étanchéité en cuivre ultra-pur

Détails d'emballage: caisses en bois

Délai de livraison: 5-6 mois

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Four à frittage unidirectionnel ou bidirectionnel haute température et pression pour le traitement à haute densité des matériaux

Température maximale de travail (℃ ℃: 2100

Uniformité de température ((°C): ≤±5

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Forneau à haute température sous pression sous vide pour céramique électronique/métallurgie des poudres/matériaux magnétiques

Température maximale de travail (℃ ℃: 2100

Uniformité de température ((°C): ≤±5

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Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique pour outil de découpe de carbure de tungstène/cimenté

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Fourniture de revêtement CVD à roue de scellage à rouleaux avec précurseurs de CO et distributeur de gaz de deuxième étape

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Forneau de dépôt de vapeur CVD/CVI avancé pour le revêtement TiC TiN TiCN a-AL2O3 et K-AI2O3 à une température de processus de 700 à 1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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AICL3 Précurseurs Forneau de dépôt de vapeur chimique pour outils de coupe à température de processus de 700 à 1050 °C

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Forneau d'aluminisation chimique à vapeur 900-1050C personnalisable avec codéposition Hf Zr et Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Forneau de revêtement CVD en céramique à honeycomb pour une température de processus de 700 à 1050 °C et neutralizer de gaz non électrique en option

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Forneau à vide de laboratoire Cvd personnalisé

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Forneau à courant continu à température de processus 700-1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Zhuzhou Ruideer Metallurgy Equipment Manufacturing Co.,Ltd produits en ligne

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