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Four à frittage unidirectionnel ou bidirectionnel haute température et pression pour le traitement à haute densité des matériaux

Température maximale de travail (℃ ℃: 2100

Uniformité de température ((°C): ≤±5

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Forneau à haute température sous pression sous vide pour céramique électronique/métallurgie des poudres/matériaux magnétiques

Température maximale de travail (℃ ℃: 2100

Uniformité de température ((°C): ≤±5

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Un bon prix. Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique pour outil de découpe de carbure de tungstène/cimenté en ligne Vidéo

Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique pour outil de découpe de carbure de tungstène/cimenté

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Un bon prix. Forneau de dépôt de vapeur CVD/CVI avancé pour le revêtement TiC TiN TiCN a-AL2O3 et K-AI2O3 à une température de processus de 700 à 1050 °C en ligne Vidéo

Forneau de dépôt de vapeur CVD/CVI avancé pour le revêtement TiC TiN TiCN a-AL2O3 et K-AI2O3 à une température de processus de 700 à 1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Un bon prix. Forneau à courant continu à température de processus 700-1050 °C en ligne Vidéo

Forneau à courant continu à température de processus 700-1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Un bon prix. Forneau à vide de laboratoire Cvd personnalisé en ligne Vidéo

Forneau à vide de laboratoire Cvd personnalisé

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Un bon prix. Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique contenant des précurseurs de TiCL4, AICL3 et des gaz de procédé en ligne Vidéo

Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique contenant des précurseurs de TiCL4, AICL3 et des gaz de procédé

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Un bon prix. Fourniture de revêtement CVD à roue de scellage à rouleaux avec précurseurs de CO et distributeur de gaz de deuxième étape en ligne Vidéo

Fourniture de revêtement CVD à roue de scellage à rouleaux avec précurseurs de CO et distributeur de gaz de deuxième étape

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Un bon prix. AICL3 Précurseurs Forneau de dépôt de vapeur chimique pour outils de coupe à température de processus de 700 à 1050 °C en ligne Vidéo

AICL3 Précurseurs Forneau de dépôt de vapeur chimique pour outils de coupe à température de processus de 700 à 1050 °C

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Un bon prix. Forneau d'aluminisation chimique à vapeur 900-1050C personnalisable avec codéposition Hf Zr et Si en ligne Vidéo

Forneau d'aluminisation chimique à vapeur 900-1050C personnalisable avec codéposition Hf Zr et Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Un bon prix. Équipement de procédé de revêtement à haute température avec précurseurs et gaz de procédé TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S en ligne Vidéo

Équipement de procédé de revêtement à haute température avec précurseurs et gaz de procédé TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S

Précurseurs et gaz de procédé: Les produits chimiques utilisés pour la préparation des produits chimiques doivent être présentés da

Substrats de revêtement: Métal, céramique, verre, etc.

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Un bon prix. Forneau de revêtement CVD en céramique à honeycomb pour une température de processus de 700 à 1050 °C et neutralizer de gaz non électrique en option en ligne Vidéo

Forneau de revêtement CVD en céramique à honeycomb pour une température de processus de 700 à 1050 °C et neutralizer de gaz non électrique en option

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Presse à chaud sous vide, four de frittage, type JR, mandrin électrostatique (céramique en nitrure d'aluminium)

Température maximale de travail (℃ ℃: 2100

Uniformité de température ((°C): ≤±5

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Un bon prix. Atteignez des outils de carbure cimenté supérieurs avec nos fours HIP à frittage avancé en ligne Vidéo

Atteignez des outils de carbure cimenté supérieurs avec nos fours HIP à frittage avancé

Max. Température de travail: 1600 ℃

Pression de travail maximale: 1,2,6,10,20MPA

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Un bon prix. Type de four à vide Forneau de frittage sous pression en couleur de peinture grise pour le frittage avancé en ligne Vidéo

Type de four à vide Forneau de frittage sous pression en couleur de peinture grise pour le frittage avancé

Durée de vie: 20 ans/6000 cycles de four

Couleur de peinture: Noir, Bleu, Gris, Blanc, etc.

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