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Machine de revêtement de CVD

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Charge supérieure/inférieure verticale du grand four CVI au carbone pyrolytique

Température maximale de fonctionnement ((°C): 1300

Uniformité de température ((°C): ≤ ± 7

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Un bon prix. Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique contenant des précurseurs de TiCL4, AICL3 et des gaz de procédé en ligne Vidéo

Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique contenant des précurseurs de TiCL4, AICL3 et des gaz de procédé

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Un bon prix. Chine Prix d'usine Fourneau de dépôt de vapeur CVD/CVI Fourneau industriel pour revêtement de surface en ligne Vidéo

Chine Prix d'usine Fourneau de dépôt de vapeur CVD/CVI Fourneau industriel pour revêtement de surface

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Un bon prix. Forneau à vide de laboratoire Cvd personnalisé en ligne Vidéo

Forneau à vide de laboratoire Cvd personnalisé

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Un bon prix. Forneau à courant continu à température de processus 700-1050 °C en ligne Vidéo

Forneau à courant continu à température de processus 700-1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Un bon prix. HTCVD CVD au carbure de silicium SIC Fourniture de croissance épitaxique zones de contrôle de température multiples en ligne Vidéo

HTCVD CVD au carbure de silicium SIC Fourniture de croissance épitaxique zones de contrôle de température multiples

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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Un bon prix. 1500C CVD SIC Epitaxy fourneau de croissance pour la croissance du carbure de silicium dans 1000 * 1000 * 1500mm espace effectif en ligne Vidéo

1500C CVD SIC Epitaxy fourneau de croissance pour la croissance du carbure de silicium dans 1000 * 1000 * 1500mm espace effectif

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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Un bon prix. La Chine fabrique des fours à chaleur, des machines de revêtement au carbure de silicium. en ligne Vidéo

La Chine fabrique des fours à chaleur, des machines de revêtement au carbure de silicium.

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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Chauffure à courant continu à température réglable de 700 à 1050 °C

Zone de chauffage: 4 pièces/5 pièces

Température maximale :: 1100℃

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Un bon prix. Forneau de dépôt de vapeur sous vide à haute température avec une plage de température maximale de 1100 °C en ligne Vidéo

Forneau de dépôt de vapeur sous vide à haute température avec une plage de température maximale de 1100 °C

Réacteur: 2 pièces

Température maximale :: 1100℃

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RDE 530L Machine de revêtement CVD pour le tournage de pièces d'acier et de fonte

Réacteur: 2 pièces

Température maximale :: 1100℃

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MT-CVD Forneau de revêtement HT-CVD avec une grande qualité de revêtement et un réacteur personnalisable

La température de revêtement: 200 à 1050°C

Système de refroidissement: 2 ensembles de pièges condensat à refroidissement par eau performants

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Machine de revêtement de dépôt de vapeur chimique PLC avec 2 ensembles de pièges de condensat refroidis à l'eau

Système de refroidissement: 2 ensembles de pièges condensat à refroidissement par eau performants

La température de revêtement: 200 à 1050°C

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Système de revêtement sous vide de chauffage électrique d'une épaisseur de revêtement de 5 à 20 um et d'un poids de chargement de 400 kg

La température de revêtement: 200 à 1050°C

Système de refroidissement: 2 ensembles de pièges condensat à refroidissement par eau performants

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5-20um Machine de revêtement à dépôt chimique de vapeur avec température de revêtement 200-1050°C

Type de revêtement: CVD

Épaisseur du revêtement: 5-20um

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RDE 530L Machine de revêtement CVD avec deux chambres de réaction et les éléments de chauffage

Chambre de réaction: 2 PCS

Température maximale :: 1100℃

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