Acheter vacuum furnace systems, De bonne qualité vacuum furnace systems fabricant

Le four économiseur d'énergie de HIP d'agglomération a entré l'AR/N2/lui permis par gaz ISO9001 approuvé

Nom: Four de hanche d'agglomération

Max.Temperature: 1600℃

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Zone du mode 2 de contrôle de température de four de frittage de la structure compacte MIM

Nom: Four de frittage MIM

Mode de mesure de la température :: Thermocouple WRe5-26

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L'atmosphère multi faite sur commande de four de frittage de pression de gaz commandée

Types: Four de frittage de pression de gaz

Méthode de chauffage: Chauffage résistif

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Forneau à courant continu à température de processus 700-1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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500kg la charge 1MPa nettoient à l'aspirateur le four pressurisé par agglomération pour le carbure cimenté

Temps de refroidissement: au moins 6 heures

Pression: 1MPa

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Vidéo

Forneau de dépôt de vapeur sous vide à haute température avec une plage de température maximale de 1100 °C

Réacteur: 2 pièces

Température maximale :: 1100℃

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Forneau de dépôt de vapeur CVD/CVI avancé pour le revêtement TiC TiN TiCN a-AL2O3 et K-AI2O3 à une température de processus de 700 à 1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique contenant des précurseurs de TiCL4, AICL3 et des gaz de procédé

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Période de refroidissement automatique élevée de four du frittage MIM 300-420min/480min

Nom: Four de frittage MIM

Couleur: Blanc

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1500C CVD SIC Epitaxy fourneau de croissance pour la croissance du carbure de silicium dans 1000 * 1000 * 1500mm espace effectif

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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Quantité matérielle protectrice 32/42 PCs de four de frittage de l'environnement MIM

Nom: Four de frittage MIM

La température fonctionnante maximale: 1550°C

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Forneau d'aluminisation chimique à vapeur 900-1050C personnalisable avec codéposition Hf Zr et Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Chambre de revêtement d'alliage à température résistance électrique chauffage four CVD pour des substrats métalliques ou céramiques de taille personnalisable

Méthode de revêtement: Dépôt de vapeur chimique (CVD)

Puissance totale: Environ 40/50/60/80 kW

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Four complètement automatique d'agglomération HIP pour le chauffage résistif de métallurgie des poudres

Spécifications: Peut être adapté aux besoins du client selon les besoins des clients

Champ d'application: métallurgie des poudres

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Four de frittage intégré par contrôle de vide de PID avec la structure de chauffage périodique

Domaine d'activités efficace: 200*200*400

Weignt de Max.loading: 50 kg

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Four de frittage industriel de vide d'alliage de contrôle de PC

Durée de vie: 20 ans

Délais de fonctionnement: 300 fois/année

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Four de vide poussé

Accessoires de four de frittage

Four à carbure de silicium

Machine de revêtement de CVD

Consommation basse d'énergie à hautes températures de four de vide d'énergie d'économie petite région de profession

Four intelligent commode de vide poussé avec la chaleur de résumé à la fonction de point de rupture

Four à recuire de vide de nitrure de silicium, four à hautes températures de vide d'alliage dur

Four industriel adapté aux besoins du client de vide, température maximale isostatique chaude 1600℃ de presse à mouler

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Forneau à courant continu à température de processus 700-1050 °C

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Forneau de dépôt de vapeur CVD/CVI avancé pour le revêtement TiC TiN TiCN a-AL2O3 et K-AI2O3 à une température de processus de 700 à 1050 °C

Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique contenant des précurseurs de TiCL4, AICL3 et des gaz de procédé

Période de refroidissement automatique élevée de four du frittage MIM 300-420min/480min

1500C CVD SIC Epitaxy fourneau de croissance pour la croissance du carbure de silicium dans 1000 * 1000 * 1500mm espace effectif

Quantité matérielle protectrice 32/42 PCs de four de frittage de l'environnement MIM

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