Acheter vacuum furnace systems, De bonne qualité vacuum furnace systems fabricant

L'énergie de four de frittage en métal de contrôle automatique alimentation AC380V±10% 50HZ

Nom: Four de frittage en métal

Avantage: fiable, viable, durable

Obtenez le meilleur prix

Zone du mode 2 de contrôle de température de four de frittage de la structure compacte MIM

Nom: Four de frittage MIM

Mode de mesure de la température :: Thermocouple WRe5-26

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Four de frittage fiable de pression de gaz avec les systèmes adaptés aux besoins du client

Utilisation: Four de traitement thermique, four de frittage, recuit en métal

Poids: 2~20T

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MT-CVD Forneau de revêtement HT-CVD avec une grande qualité de revêtement et un réacteur personnalisable

La température de revêtement: 200 à 1050°C

Système de refroidissement: 2 ensembles de pièges condensat à refroidissement par eau performants

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Four de frittage du rendement élevé MIM pour des pièces de précision d'acier inoxydable

Couleur: Noir et blanc/gris-clair et bleu-clair

Nom: MIM Debinding Sintering Furnace

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Le four économiseur d'énergie de HIP d'agglomération a entré l'AR/N2/lui permis par gaz ISO9001 approuvé

Nom: Four de hanche d'agglomération

Max.Temperature: 1600℃

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L'atmosphère multi faite sur commande de four de frittage de pression de gaz commandée

Types: Four de frittage de pression de gaz

Méthode de chauffage: Chauffage résistif

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Forneau à courant continu à température de processus 700-1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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500kg la charge 1MPa nettoient à l'aspirateur le four pressurisé par agglomération pour le carbure cimenté

Temps de refroidissement: au moins 6 heures

Pression: 1MPa

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Vidéo

Forneau de dépôt de vapeur sous vide à haute température avec une plage de température maximale de 1100 °C

Réacteur: 2 pièces

Température maximale :: 1100℃

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Forneau de dépôt de vapeur CVD/CVI avancé pour le revêtement TiC TiN TiCN a-AL2O3 et K-AI2O3 à une température de processus de 700 à 1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique contenant des précurseurs de TiCL4, AICL3 et des gaz de procédé

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Période de refroidissement automatique élevée de four du frittage MIM 300-420min/480min

Nom: Four de frittage MIM

Couleur: Blanc

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Vidéo

1500C CVD SIC Epitaxy fourneau de croissance pour la croissance du carbure de silicium dans 1000 * 1000 * 1500mm espace effectif

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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Quantité matérielle protectrice 32/42 PCs de four de frittage de l'environnement MIM

Nom: Four de frittage MIM

La température fonctionnante maximale: 1550°C

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Forneau d'aluminisation chimique à vapeur 900-1050C personnalisable avec codéposition Hf Zr et Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Four de frittage de vide

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Four à hautes températures de vide

Four de traitement thermique de vide

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Four de vide poussé

Accessoires de four de frittage

Four à carbure de silicium

Machine de revêtement de CVD

Four de frittage personnalisable d'acier inoxydable/four horizontal de vide

Four de vide poussé de bonne représentation équipé des pièces de rechange multi

Four de vide poussé de carbure de silicium avec la double structure brevetée de débouché de désencausticage

Haut four industriel automatique de vide pour l'acier inoxydable/alliage à haute densité

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Zone du mode 2 de contrôle de température de four de frittage de la structure compacte MIM

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Forneau à courant continu à température de processus 700-1050 °C

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Forneau de dépôt de vapeur sous vide à haute température avec une plage de température maximale de 1100 °C

Forneau de dépôt de vapeur CVD/CVI avancé pour le revêtement TiC TiN TiCN a-AL2O3 et K-AI2O3 à une température de processus de 700 à 1050 °C

Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique contenant des précurseurs de TiCL4, AICL3 et des gaz de procédé

Période de refroidissement automatique élevée de four du frittage MIM 300-420min/480min

1500C CVD SIC Epitaxy fourneau de croissance pour la croissance du carbure de silicium dans 1000 * 1000 * 1500mm espace effectif

Quantité matérielle protectrice 32/42 PCs de four de frittage de l'environnement MIM

Forneau d'aluminisation chimique à vapeur 900-1050C personnalisable avec codéposition Hf Zr et Si