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high pressure furnace (431)  Fabricant en ligne

Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique contenant des précurseurs de TiCL4, AICL3 et des gaz de procédé

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Un bon prix. Forneau de brasage sous vide avancé pour la liaison AMB de substrats céramiques à 1200 °C en ligne Vidéo

Forneau de brasage sous vide avancé pour la liaison AMB de substrats céramiques à 1200 °C

Température maximale de fonctionnement ((°C): 1200

Uniformité de température ((°C): ≤ ± 3

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Un bon prix. Forneau de frittage à carbure de silicium de réaction de précision 1800C avec une uniformité de température ≤ ± 5C en ligne Vidéo

Forneau de frittage à carbure de silicium de réaction de précision 1800C avec une uniformité de température ≤ ± 5C

Max.Température de fonctionnement: 1800℃

Uniformité de température: ≤±5℃

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Furonnes à revêtement CVD au carbure de silicium pour les supports de graphite ou les anneaux de gravure

Détails d'emballage: boîtiers en bois

Délai de livraison: 5 à 6 mois

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Un bon prix. La Chine fabrique des fours à chaleur, des machines de revêtement au carbure de silicium. en ligne Vidéo

La Chine fabrique des fours à chaleur, des machines de revêtement au carbure de silicium.

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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Forneau industriel de purification à haute température pour les matériaux de graphite

Max.Température de fonctionnement: 2400℃

Uniformité de température: ≤±10℃

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Un bon prix. Forneau de brasage à haute température et à très haut vide à 800 à 1300 °C pour les matériaux en acier ou en cuivre en ligne Vidéo

Forneau de brasage à haute température et à très haut vide à 800 à 1300 °C pour les matériaux en acier ou en cuivre

Température maximale de fonctionnement ((°C): 1300

Temperature uniformity(℃): ≤±3

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Taille et configuration adaptées aux besoins du client par four adaptées aux besoins du client de traitement thermique de vide

Taille: Taille adaptée aux besoins du client

Structure: chambre simple, type horizental

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Four à hautes températures de vide de contrôle de PLC de 320KVA Siemens

structure: chambre simple, type horizental

Dimension: Adapté aux besoins du client

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Fours en atmosphère contrôlée de vide à hautes températures avec la zone chaude

Coquille de four: Carbone/acier inoxydable

Couleur: blanc, gris, noir, bleu

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Un bon prix. RDE Machine de revêtement au carbure de silicium Fourneau de dépôt de vapeur chimique CVD en ligne Vidéo

RDE Machine de revêtement au carbure de silicium Fourneau de dépôt de vapeur chimique CVD

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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Un bon prix. HTCVD CVD au carbure de silicium SIC Fourniture de croissance épitaxique zones de contrôle de température multiples en ligne Vidéo

HTCVD CVD au carbure de silicium SIC Fourniture de croissance épitaxique zones de contrôle de température multiples

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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Un bon prix. Forneau de frittage en céramique au nitrure de silicium à 60 bar Pression et espace de travail personnalisable en ligne Vidéo

Forneau de frittage en céramique au nitrure de silicium à 60 bar Pression et espace de travail personnalisable

Espace de travail: 400*400*1200mm, ou personnalisé selon les besoins du client

Pression de travail: Barre 60

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Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique pour outil de découpe de carbure de tungstène/cimenté

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Fourniture de revêtement CVD à roue de scellage à rouleaux avec précurseurs de CO et distributeur de gaz de deuxième étape

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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