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high pressure furnace (481)  Fabricant en ligne

Un bon prix. Forneau industriel de graphitisation sous vide pour le matériau au carbone en ligne Vidéo

Forneau industriel de graphitisation sous vide pour le matériau au carbone

Température maximale de fonctionnement ((°C: 2500

Vide ultime(Pa): 1

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Fabrique chinoise Certificat ISO CE Forneau sans pression sous vide avec température de fonctionnement max.

Max.Température de fonctionnement: 2500℃

Uniformité de température: ≤±5℃

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Forneau de frittage à haute température pour la recristallisation du carbure de silicium Max. 2400C 3Pa/h Taux de hausse de pression

Température maximale de travail: 2400℃

Uniformité de température: ≤±5℃

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Inert gas pressure sintering furnace with matching insulation accessories

Matériel d'isolation: Mullite

Atmosphère: Air/gaz inerte

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Haute agglomération de performance et four intégré par Debinding avec des fonctions multi

Structure: chambre simple, type horizental

Dimension: Adapté aux besoins du client

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four de frittage simple de Debinding de vide de chambre de la charge 500kg pour l'acier inoxydable

Durée de vie: 20 ans

Peinture: noir, blanc, gris, bleu, vert

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Four intégré de désencausticage et de frittage de vide pour des produits de lame de carbure

Weignt de corps de four: environ 5 t

Domaine d'activités efficace: 400*400*1500mm

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Four de frittage de chauffage périodique horizontal en métal de chambre simple

Durée de vie: 20 ans

Délais de fonctionnement: 300 fois/année

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Four à résistance électrique de vide à hautes températures avec le refroidissement rapide

Matériel: acier inoxydable/acier au carbone

Couleur: blanc, gris, noir, bleu

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Produit simple d'acier inoxydable de MIM Vacuum Sintering Furnace For de chambre

Durée de vie: 20 ans

Délais de fonctionnement: 300 fois/année

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Un bon prix. 1500C CVD SIC Epitaxy fourneau de croissance pour la croissance du carbure de silicium dans 1000 * 1000 * 1500mm espace effectif en ligne Vidéo

1500C CVD SIC Epitaxy fourneau de croissance pour la croissance du carbure de silicium dans 1000 * 1000 * 1500mm espace effectif

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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Un bon prix. Forneau à courant continu à température de processus 700-1050 °C en ligne Vidéo

Forneau à courant continu à température de processus 700-1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Un bon prix. Forneau de dépôt de vapeur CVD/CVI avancé pour le revêtement TiC TiN TiCN a-AL2O3 et K-AI2O3 à une température de processus de 700 à 1050 °C en ligne Vidéo

Forneau de dépôt de vapeur CVD/CVI avancé pour le revêtement TiC TiN TiCN a-AL2O3 et K-AI2O3 à une température de processus de 700 à 1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Un bon prix. Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique contenant des précurseurs de TiCL4, AICL3 et des gaz de procédé en ligne Vidéo

Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique contenant des précurseurs de TiCL4, AICL3 et des gaz de procédé

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Un bon prix. Forneau de brasage sous vide avancé pour la liaison AMB de substrats céramiques à 1200 °C en ligne Vidéo

Forneau de brasage sous vide avancé pour la liaison AMB de substrats céramiques à 1200 °C

Température maximale de fonctionnement ((°C): 1200

Uniformité de température ((°C): ≤ ± 3

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Un bon prix. Forneau de frittage à carbure de silicium de réaction de précision 1800C avec une uniformité de température ≤ ± 5C en ligne Vidéo

Forneau de frittage à carbure de silicium de réaction de précision 1800C avec une uniformité de température ≤ ± 5C

Max.Température de fonctionnement: 1800℃

Uniformité de température: ≤±5℃

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