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cooling water system (273)  Fabricant en ligne

Four de vide poussé de bonne représentation équipé des pièces de rechange multi

Nom: Four de vide poussé

Structure: chambre simple, type horizental

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Four cylindrique horizontal de HIP d'agglomération pour non la céramique d'oxyde

Certification: CE,ISO

Température maximale: 1650 degrés

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Machine de revêtement fortement automatique de CVD de RDE 530L avec deux chambres de réaction

Chambre de réaction: 2 PCs

Température maximale :: 1100℃

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Le four industriel intelligemment actionné de vide avec la pompe/racines de support dactylographient la pompe

nom: Four industriel de vide

Pompe à vide: pompe de support, pompe de type racines

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Le best-seller multifonctionnel réutilisent le four de frittage de pression de gaz de chauffage

Structure: chambre simple, type horizontal, avant et porte arrière de four

Dimension: 500*500*1800

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four à hautes températures de vide de la charge 80kg pour agglomérer le carbure cimenté

structure: chambre simple, type horizental

Élément de chauffe: Graphite

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Contrôle précis de la température Frittage sous vide avec thermocouple de type K en composite de carbone résistant aux hautes températures

Élément de chauffe: Graphite, Molybdène

Système de contrôle de température: Contrôle automatique de PID

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Four à hautes températures de vide de contrôle de PLC de 320KVA Siemens

structure: chambre simple, type horizental

Dimension: Adapté aux besoins du client

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Four de frittage à hautes températures de vide avec la fonction de désencausticage

structure: chambre simple, type horizental

Dimension: 500*500*1800

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MT-CVD Forneau de revêtement HT-CVD avec une grande qualité de revêtement et un réacteur personnalisable

La température de revêtement: 200 à 1050°C

Système de refroidissement: 2 ensembles de pièges condensat à refroidissement par eau performants

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Forneau d'aluminisation chimique à vapeur 900-1050C personnalisable avec codéposition Hf Zr et Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Forneau à courant continu à température de processus 700-1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Forneau à vide de laboratoire Cvd personnalisé

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Forneau de dépôt de vapeur CVD/CVI avancé pour le revêtement TiC TiN TiCN a-AL2O3 et K-AI2O3 à une température de processus de 700 à 1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique contenant des précurseurs de TiCL4, AICL3 et des gaz de procédé

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Fabrique chinoise Certificat ISO CE Forneau sans pression sous vide avec température de fonctionnement max.

Max.Température de fonctionnement: 2500℃

Uniformité de température: ≤±5℃

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