Acheter cooling water system, De bonne qualité cooling water system fabricant

Contrôle précis de la température Frittage sous vide avec thermocouple de type K en composite de carbone résistant aux hautes températures

Élément de chauffe: Graphite, Molybdène

Système de contrôle de température: Contrôle automatique de PID

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Four à hautes températures de vide de contrôle de PLC de 320KVA Siemens

structure: chambre simple, type horizental

Dimension: Adapté aux besoins du client

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Four de frittage à hautes températures de vide avec la fonction de désencausticage

structure: chambre simple, type horizental

Dimension: 500*500*1800

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MT-CVD Forneau de revêtement HT-CVD avec une grande qualité de revêtement et un réacteur personnalisable

La température de revêtement: 200 à 1050°C

Système de refroidissement: 2 ensembles de pièges condensat à refroidissement par eau performants

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Forneau d'aluminisation chimique à vapeur 900-1050C personnalisable avec codéposition Hf Zr et Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Forneau à courant continu à température de processus 700-1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Forneau à vide de laboratoire Cvd personnalisé

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Forneau de dépôt de vapeur CVD/CVI avancé pour le revêtement TiC TiN TiCN a-AL2O3 et K-AI2O3 à une température de processus de 700 à 1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique contenant des précurseurs de TiCL4, AICL3 et des gaz de procédé

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Fabrique chinoise Certificat ISO CE Forneau sans pression sous vide avec température de fonctionnement max.

Max.Température de fonctionnement: 2500℃

Uniformité de température: ≤±5℃

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1500C CVD SIC Epitaxy fourneau de croissance pour la croissance du carbure de silicium dans 1000 * 1000 * 1500mm espace effectif

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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Forneau de frittage à carbure de silicium de réaction de précision 1800C avec une uniformité de température ≤ ± 5C

Max.Température de fonctionnement: 1800℃

Uniformité de température: ≤±5℃

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Four à frittage unidirectionnel ou bidirectionnel haute température et pression pour le traitement à haute densité des matériaux

Température maximale de travail (℃ ℃: 2100

Uniformité de température ((°C): ≤±5

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Fabricant de fours de frittage sous pression à gaz à haute température pour le carbure/nitrure de silicium

Détails d'emballage: boîtiers en bois

Délai de livraison: 4 à 5 mois

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Haut four à carbure de silicium d'automation, puissance industrielle de chauffage de four de vide 320 KVAs

nom: Four de vide poussé

Max.temperature: 1800℃

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Four de compression de vide d'AC380V/50Hz avec la matière de charge 2000kg maximale

Taille de chambre: Adapté aux besoins du client

Nom de produit: Four de frittage de pression de gaz

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Four de frittage de pression de gaz

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Four de vide poussé

Accessoires de four de frittage

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Machine de revêtement de CVD

Charge maximum 1800Kg de frittage de four de contrôle de température de zone en céramique professionnelle du mode 3

Le PLC intelligent automatique de four de HIP d'agglomération d'IPC a commandé adapté aux besoins du client

Four industriel durable de vide avec le mode de mesure de la température du thermocouple WRe5-26

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