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Un bon prix. RDE Machine de revêtement au carbure de silicium Fourneau de dépôt de vapeur chimique CVD en ligne Vidéo

RDE Machine de revêtement au carbure de silicium Fourneau de dépôt de vapeur chimique CVD

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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Four de frittage de vide d'acier inoxydable pour sic l'application

Couleur de peinture: Gris, bleu, blanc, noir

Four Shell Service Life: 20 années de service de vie

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Furonnes à revêtement CVD au carbure de silicium pour les supports de graphite ou les anneaux de gravure

Détails d'emballage: boîtiers en bois

Délai de livraison: 5 à 6 mois

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Four de frittage de carbure de silicium pour des transistors et des transistors MOSFET de semi-conducteur

Détails d'emballage: Boîte en bois spéciale

Délai de livraison: 5-8 mois

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Un bon prix. HTCVD CVD au carbure de silicium SIC Fourniture de croissance épitaxique zones de contrôle de température multiples en ligne Vidéo

HTCVD CVD au carbure de silicium SIC Fourniture de croissance épitaxique zones de contrôle de température multiples

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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Four de vide poussé de bonne représentation équipé des pièces de rechange multi

Nom: Four de vide poussé

Structure: chambre simple, type horizental

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Four de frittage de nitrure de silicium dans l'application industrielle manipulant le métal fondu

Couleur: blanc, gris, noir, bleu

Pression: 58/98bar

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Four de frittage blanc de nitrure de silicium de couleur pour l'industrie de matériaux avancés

Couleur: blanc, gris, noir, bleu

Pression: 58/98bar

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four de frittage de pression de gaz 1-100bar pour le ℃ jusqu'à 2100 de céramique de nitrure de silicium

Coquille de four: carbone/acier inoxydable

Thermocouplets: Nanmac/Jumo

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Four à hautes températures de vide (pour le carbide&precision cimenté en céramique)

Structure: chambre simple, type horizental

Dimension: Adapté aux besoins du client

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Haut four de vide poussé d'Automatation avec le système d'exploitation industriel de PC de Fouble

Caractéristique: Haut Automatation

Dimension: Adapté aux besoins du client

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Four programmé de vide poussé avec le résumé - la chaleur - St - fonction de point de rupture

Fonction: Résumé - la chaleur - St - fonction de point de rupture

Dimension: Adapté aux besoins du client

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Four de vide poussé de 20 brevets fortement identifié par Indstries international

Structure: chambre simple, type horizental

Dimension: Adapté aux besoins du client

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MIM Integrated Sintering Furnace Vacuum Debinding

Garantie: 12 mois

Industries applicables: Usine, industrie/pièces d'auto

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Un bon prix. 1500C CVD SIC Epitaxy fourneau de croissance pour la croissance du carbure de silicium dans 1000 * 1000 * 1500mm espace effectif en ligne Vidéo

1500C CVD SIC Epitaxy fourneau de croissance pour la croissance du carbure de silicium dans 1000 * 1000 * 1500mm espace effectif

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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