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high vacuum furnace (484)  Fabricant en ligne

Furonnes à revêtement CVD au carbure de silicium pour les supports de graphite ou les anneaux de gravure

Détails d'emballage: boîtiers en bois

Délai de livraison: 5 à 6 mois

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Un bon prix. 1500C CVD SIC Epitaxy fourneau de croissance pour la croissance du carbure de silicium dans 1000 * 1000 * 1500mm espace effectif en ligne Vidéo

1500C CVD SIC Epitaxy fourneau de croissance pour la croissance du carbure de silicium dans 1000 * 1000 * 1500mm espace effectif

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique contenant des précurseurs de TiCL4, AICL3 et des gaz de procédé

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Forneau de revêtement CVD en céramique à honeycomb pour une température de processus de 700 à 1050 °C et neutralizer de gaz non électrique en option

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Le molybdène a fait à four de frittage en métal l'espace utilisable 400*400*1500/500*500*1800mm

Nom: Four de frittage en métal

L'espace utilisable (millimètres): 400 × du × 400 1500/500 × 1800 du × 500

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MT-CVD Forneau de revêtement HT-CVD avec une grande qualité de revêtement et un réacteur personnalisable

La température de revêtement: 200 à 1050°C

Système de refroidissement: 2 ensembles de pièges condensat à refroidissement par eau performants

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Forneau de dépôt de vapeur CVD/CVI avancé pour le revêtement TiC TiN TiCN a-AL2O3 et K-AI2O3 à une température de processus de 700 à 1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Forneau industriel de purification à haute température pour les matériaux de graphite

Max.Température de fonctionnement: 2400℃

Uniformité de température: ≤±10℃

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Forneau d'aluminisation chimique à vapeur 900-1050C personnalisable avec codéposition Hf Zr et Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Mode de contrôle à hautes températures de Temp de zone du four de frittage d'entretien facile 3

Nom: four de frittage à hautes températures

Mode de Temp.Control: 3 zone Temp.control

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Four spécial de HIP d'agglomération pour les produits cimentés d'acier inoxydable de carbure, en céramique et

Carbure cimenté: Outil de coupe, outils d'exploitation, pièces d'usage, matériel de moule

en céramique: Céramique industrielle, précision en céramique, nitrure de silicium en céramique, alumine en céramiq

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Fonction intégrée de MIM Sintering Furnace With Sintering et de désencausticage

Type: MIM Parts, four de frittage

Utilisation: Four de frittage, four de traitement thermique

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Un bon prix. RDE Machine de revêtement au carbure de silicium Fourneau de dépôt de vapeur chimique CVD en ligne Vidéo

RDE Machine de revêtement au carbure de silicium Fourneau de dépôt de vapeur chimique CVD

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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Un bon prix. La Chine fabrique des fours à chaleur, des machines de revêtement au carbure de silicium. en ligne Vidéo

La Chine fabrique des fours à chaleur, des machines de revêtement au carbure de silicium.

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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Un bon prix. HTCVD CVD au carbure de silicium SIC Fourniture de croissance épitaxique zones de contrôle de température multiples en ligne Vidéo

HTCVD CVD au carbure de silicium SIC Fourniture de croissance épitaxique zones de contrôle de température multiples

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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Fourniture de revêtement CVD à roue de scellage à rouleaux avec précurseurs de CO et distributeur de gaz de deuxième étape

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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