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al2o3 cvd furnace (14) Fabricant en ligne

Chauffure à courant continu à température réglable de 700 à 1050 °C

Zone de chauffage: 4 pièces/5 pièces

Température maximale :: 1100℃

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Forneau à courant continu à température de processus 700-1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Chambre de revêtement d'alliage à température résistance électrique chauffage four CVD pour des substrats métalliques ou céramiques de taille personnalisable

Méthode de revêtement: Dépôt de vapeur chimique (CVD)

Puissance totale: Environ 40/50/60/80 kW

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Dominez la coupe lourde: pourquoi le four CVD Ruideer RDE530L est le choix des inserts de carbure haut de gamme

Tension d'alimentation: 380 V 50 Hz

Température maximale :: 1100°C

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Forneau de dépôt de vapeur CVD/CVI avancé pour le revêtement TiC TiN TiCN a-AL2O3 et K-AI2O3 à une température de processus de 700 à 1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Forneau de revêtement CVD en céramique à honeycomb pour une température de processus de 700 à 1050 °C et neutralizer de gaz non électrique en option

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Fourniture de revêtement CVD à roue de scellage à rouleaux avec précurseurs de CO et distributeur de gaz de deuxième étape

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Forneau à vide de laboratoire Cvd personnalisé

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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AICL3 Précurseurs Forneau de dépôt de vapeur chimique pour outils de coupe à température de processus de 700 à 1050 °C

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Machine de revêtement CVD à chauffage par résistance électrique pour revêtement à haute température jusqu'à 1000 °C Projet chinois et clé en main

Puissance totale: Environ 40/50/60/80 kW

Substrats de revêtement: Métal, céramique, verre, etc.

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MT-CVD Forneau de revêtement HT-CVD avec une grande qualité de revêtement et un réacteur personnalisable

La température de revêtement: 200 à 1050°C

Système de refroidissement: 2 ensembles de pièges condensat à refroidissement par eau performants

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Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique contenant des précurseurs de TiCL4, AICL3 et des gaz de procédé

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Forneau de dépôt de vapeur sous vide à haute température avec une plage de température maximale de 1100 °C

Réacteur: 2 pièces

Température maximale :: 1100℃

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Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique pour outil de découpe de carbure de tungstène/cimenté

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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