Acheter cooling water system, De bonne qualité cooling water system fabricant

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Forneau à vide de laboratoire Cvd personnalisé

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Forneau de dépôt de vapeur CVD/CVI avancé pour le revêtement TiC TiN TiCN a-AL2O3 et K-AI2O3 à une température de processus de 700 à 1050 °C

Température de traitement: 700 à 1050

Types de revêtement: Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'acide acétique.

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Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique contenant des précurseurs de TiCL4, AICL3 et des gaz de procédé

Température de traitement: 700 à 1050

Précurseurs et gaz de procédé: Les substances qui sont utilisées pour la préparation des produits chimiques doivent être conservées

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Fabrique chinoise Certificat ISO CE Forneau sans pression sous vide avec température de fonctionnement max.

Max.Température de fonctionnement: 2500℃

Uniformité de température: ≤±5℃

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1500C CVD SIC Epitaxy fourneau de croissance pour la croissance du carbure de silicium dans 1000 * 1000 * 1500mm espace effectif

Espace effectif (mm): 1000*1000*1500

Puissance de chauffage ((KVA): 300

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Forneau de frittage à carbure de silicium de réaction de précision 1800C avec une uniformité de température ≤ ± 5C

Max.Température de fonctionnement: 1800℃

Uniformité de température: ≤±5℃

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Four à frittage unidirectionnel ou bidirectionnel haute température et pression pour le traitement à haute densité des matériaux

Température maximale de travail (℃ ℃: 2100

Uniformité de température ((°C): ≤±5

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Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity

Max.Température de fonctionnement: 1800 ℃

Uniformité de la température: ≤ ± 5 ℃

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Fabricant de fours de frittage sous pression à gaz à haute température pour le carbure/nitrure de silicium

Détails d'emballage: boîtiers en bois

Délai de livraison: 4 à 5 mois

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Haut four à carbure de silicium d'automation, puissance industrielle de chauffage de four de vide 320 KVAs

nom: Four de vide poussé

Max.temperature: 1800℃

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5-20um Machine de revêtement à dépôt chimique de vapeur avec température de revêtement 200-1050°C

Type de revêtement: CVD

Épaisseur du revêtement: 5-20um

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Forneau de frittage à vide à chauffage périodique à pression gazeuse multifonctionnelle de 1 MPA

Espace utilisable: La taille de l'échantillon doit être déterminée en fonction de la taille de l'échantillon, y compris

Zone de chauffage: Zones 2/3

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Four de compression de vide d'AC380V/50Hz avec la matière de charge 2000kg maximale

Taille de chambre: Adapté aux besoins du client

Nom de produit: Four de frittage de pression de gaz

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3 fours à hautes températures de vide du contrôle de température 320KVA de zone

structure: chambre simple, type horizental

Dimension: 400*400*1600

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Four de frittage à hautes températures du vide 320KVA pour sic le carbure

structure: chambre simple, type horizental

Dimension: 500mm*500mm*1800mm

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Consommation basse d'énergie à hautes températures de four de vide d'énergie d'économie petite région de profession

Nom: Four à hautes températures de vide

Avantages: énergie d'économie et environment.ect protecteur

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cooling water system Fabricant en ligne

four de hanche d'agglomération

Four de frittage de pression de gaz

Four de frittage de vide

MIM four de frittage

four de frittage en métal

four industriel de vide

Four à hautes températures de vide

Four de traitement thermique de vide

four de frittage en céramique

Four de vide poussé

Accessoires de four de frittage

Four à carbure de silicium

Machine de revêtement de CVD

Four industriel durable de vide avec le mode de mesure de la température du thermocouple WRe5-26

Four de traitement thermique de vide de rendement élevé, processus isostatique chaud fiable de pressing

Le PLC intelligent automatique de four de HIP d'agglomération d'IPC a commandé adapté aux besoins du client

L'espace efficace 5005001800mm de four à hautes températures de vide de structure compacte

Forneau à vide de laboratoire Cvd personnalisé

Forneau de dépôt de vapeur CVD/CVI avancé pour le revêtement TiC TiN TiCN a-AL2O3 et K-AI2O3 à une température de processus de 700 à 1050 °C

Forneau de revêtement à dépôt de vapeur chimique contenant des précurseurs de TiCL4, AICL3 et des gaz de procédé

Fabrique chinoise Certificat ISO CE Forneau sans pression sous vide avec température de fonctionnement max.

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Forneau de frittage à carbure de silicium de réaction de précision 1800C avec une uniformité de température ≤ ± 5C

Four à frittage unidirectionnel ou bidirectionnel haute température et pression pour le traitement à haute densité des matériaux

Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity

Fabricant de fours de frittage sous pression à gaz à haute température pour le carbure/nitrure de silicium

Haut four à carbure de silicium d'automation, puissance industrielle de chauffage de four de vide 320 KVAs

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Four de compression de vide d'AC380V/50Hz avec la matière de charge 2000kg maximale

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Four de frittage à hautes températures du vide 320KVA pour sic le carbure

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